真空爐是一種能夠在高溫下制備材料的設(shè)備，一般需要在載體（如石英管）內(nèi)部抽出氣體，以發(fā)明一個低壓環(huán)境。在真空爐中，真空度是一個非常要害的目標(biāo)。
一般來說，真空爐的真空度要求應(yīng)該在10^-5至10^-6的范圍內(nèi)，即每立方厘米的氣體分子數(shù)在這個范圍內(nèi)。一般情況下，真空度越高，材料的制備質(zhì)量就越高，因此對某些特別領(lǐng)域（如航空、航天）的材料制備，真空度要求可達到10^-8甚至10^-10。