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挑選高純度、高導電和高溫穩(wěn)定性的石墨材料作為基材。

真空爐的真空度范圍通常在1.33×10^-3 Pa到6.6×10^-4 Pa之間。

在真空爐中，真空爐石墨件能夠用作加熱元件。這些加熱元件能夠接受高溫環(huán)境，快速而均勻地傳導熱量，使樣品達到所需溫度。

真空爐石墨件是在真空爐中運用的石墨制品，具有高溫耐性、化學穩(wěn)定性和優(yōu)良的導熱功能。

真空爐石墨件在高溫處理、熱處理、熔融冷卻等領(lǐng)域中扮演重要人物，其耐高溫、化學穩(wěn)定性和導熱功能使其成為真空爐操作和材料處理過程中的中心組成部分。

真空爐石墨加熱元件廣泛應(yīng)用于高溫處理和熱處理進程。石墨加熱元件能夠承受高溫環(huán)境，并快速而均勻地傳導熱量，使樣品到達所需溫度。

石墨棒在空氣中加熱時，會在外表形成一層二氧化硅膜，起到維護石墨棒的作用。但是，假如石墨棒在真空燒結(jié)爐中連續(xù)運用，當從頭運用時，二氧化硅膜或許會被破壞，導致石墨棒的抗氧化性下降。因而，在連續(xù)運用石墨棒時，應(yīng)確保真空燒結(jié)爐內(nèi)的溫度可靠性，以維護石墨棒的抗氧化性。